E09000 - SEMI E90 - 기판 추적 사양 StdTpc-Fire Safety もしアレイの点がウェーハのフロント表面上にある場合には，唯一xおよびy（またはrおよびq）座標が適切である。半導体材料およびデバイス製造において，自動プロセシング，テスト，または評価設備がウェーハ上の位置の認識ないし位置決めをするためのウェーハ上の位置を，曖昧さを排除して記述することがますます重要になってきている。例えば，評価装置は，プロセッシングの前あるいは後で発見される欠陥や異常部の有無とデバイス歩留まりバラツキとの関連付けのため，ウェーハ上に認められる欠陥や異常部の正確な位置を報告する必要がある。ウェーハ座標システムは，注目する各点の座標位置を確立するために，そして歩留まり解析座標システムへの変換により，ダイ歩留まりマップに対応させるのに用いることが出来る。

もしアレイの点がウェーハのフロント表面上にある場合には，唯一xおよびy（またはrおよびq）座標が適切である。半導体材料およびデバイス製造において，自動プロセシング，テスト，または評価設備がウェーハ上の位置の認識ないし位置決めをするためのウェーハ上の位置を，曖昧さを排除して記述することがますます重要になってきている。例えば，評価装置は，プロセッシングの前あるいは後で発見される欠陥や異常部の有無とデバイス歩留まりバラツキとの関連付けのため，ウェーハ上に認められる欠陥や異常部の正確な位置を報告する必要がある。ウェーハ座標システムは，注目する各点の座標位置を確立するために，そして歩留まり解析座標システムへの変換により，ダイ歩留まりマップに対応させるのに用いることが出来る。

SEMI MF1619-1107 (Reapproved 1023)

and maintain equipment

SEMI MF1188 — Test Method for Interstitial Atomic Oxygen Content of Silicon by Infrared Absorption

注意：本文件於2007年全面重新編寫。

E09000 - SEMI E90 - 기판 추적 사양 StdTpc-Fire Safety もしアレイの点がウェーハのフロント表面上にある場合には，唯一xおよびy（またはrおよびq）座標が適切である。半導体材料およびデバイス製造において，自動プロセシング，テスト，または評価設備がウェーハ上の位置の認識ないし位置決めをするためのウェーハ上の位置を，曖昧さを排除して記述することがますます重要になってきている。例えば，評価装置は，プロセッシングの前あるいは後で発見される欠陥や異常部の有無とデバイス歩留まりバラツキとの関連付けのため，ウェーハ上に認められる欠陥や異常部の正確な位置を報告する必要がある。ウェーハ座標システムは，注目する各点の座標位置を確立するために，そして歩留まり解析座標システムへの変換により，ダイ歩留まりマップに対応させるのに用いることが出来る。Global Information & Control Technical Committee , 2011 12 24Audits and Reviews Subcommittee . 1999 , 2011 11 . www. semiviews. org www. semi. org 2012 3 . (substrate ) . (substrates) . (substrate) , (substrate) . (substrate) . . , (substrate) , (substrate) , (batch) (batch) . (substrate) , . Subordinate Document: SEMI E90. 1 0312 Specification for SECS II Protocol Substrate Tracking Referenced SEMI Standards SEMI E5 SEMI Equipment Communications